1861资源网 免费发布信息  主要用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积（CVD）工艺等。
TN-1200X-80型高真空CVD管式炉
该仪器是一个三温区真空管式炉主要用于大专院校、科研院所、工矿企业等试验和小批量生产之用。主要用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积（CVD）工艺等。
仪器的控制系统采用原装进口产品，具有操作容易，安全可靠，控温精度高（专家PID控制），保温效果好，温度范围大，炉膛温度均匀性高，温区多，可通气泵，抽真空等特点。
1 产品名称 高真空CVD管式炉
2 产品型号 TN-1200X-80
3 加热元件 电阻丝
4 加热区长度 220mm
5 恒温区长度 100mm
6 工作温度 ≤1100℃
7 *高温度 1200℃
8 控温方式 智能化30段可编程控制
9 恒温精度 ±1℃
10 炉门结构 开启式
11 工作电源 Ac220v 50Hz/60Hz
12 额定功率 2.5kw
13 外形尺寸 550x380x520mm,电 话：0371-55610652
高真空CVD管式炉，高温管式电阻炉，高温管式气氛炉河南三博特耐仪器仪表有限公司
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