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悬浮液CM-S301,悬浮液,工业悬浮剂天津西美半导体材料有限公司

所在地区:   时间:2024-11-23  【加入收藏夹关闭

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    CM-S301主要由各种助剂如高分子、活性剂等组成,特别适用于碳化硼、氧化铝和金刚石研磨液的悬浮,具有稳定性和分散性良好,去除率高、表面粗糙度小以及对工件无损伤等优点。即使在稀释倍率很高的情况下使用,仍具有很好的研磨效率和使用寿命。

CM-S301 is mainly composed of some kinds of additives such as polymer, active agent and so on, which facilitate to suspend of boron carbide , aluminium oxide and diamond polishing agent. It has excellent particle stability, dispersal, and possesses a high removal rate, good surface effects and damage-free polishing. Even when used at high dilutions, still has excellent processing efficiency and long slurry life.



项目 Item

外观 Appearance 胶体colloid

颜色 Colour 浅色 tint

pH (20℃) 11.0±0.5

比重 Specific gravity (20℃) 1.25±0.05

粘度 Viscosity (20℃,cps) ≥10

杀菌剂含量 Biocide Content (ppm) <500

用途 Application 研磨抛光 lapping and polishing

包装 Package 25kg

符合RoHS标准 RoHS compliant,电 话:022-87848095
悬浮液CM-S301,悬浮液,工业悬浮剂天津西美半导体材料有限公司

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